南智光電攜手逍遙科技 | 基于PIC Studio平臺(tái)正式發(fā)布南智光電硅光PDK&培訓(xùn)交流邀請(qǐng)

  引言

  南智光電與逍遙科技共同宣布，基于PIC Studio光電芯片設(shè)計(jì)平臺(tái)的南智光電硅光PDK：IOPTEE-SIP-Si-Cband-V1.0正式發(fā)布，即將面向硅光設(shè)計(jì)用戶提供服務(wù)。

  合作背景

  南智光電的硅光制程平臺(tái)基于180 nm CMOS工藝線，采用具有3 μm埋氧層和220 nm頂層硅的200 mm SOI襯底，能夠?qū)崿F(xiàn)無源器件、熱光調(diào)諧器件等各類硅光子器件的制作。

  逍遙科技多年來專注于光電子集成電路設(shè)計(jì)自動(dòng)化領(lǐng)域，PIC Studio平臺(tái)為光電子芯片設(shè)計(jì)提供了從設(shè)計(jì)、仿真到驗(yàn)證的全流程支持。

  PDK內(nèi)容

  1. 完整PDK支持

  PIC Studio平臺(tái)完整支持南智光電的硅光PDK，包括但不限于：

  ●  南智光電提供的光柵耦合器、多模干涉耦合器、定向耦合器等無源器件

  ●  微環(huán)諧振腔等熱光調(diào)諧器件

  ●  各類波導(dǎo)器件的參數(shù)化設(shè)計(jì)

圖1:南智硅光平臺(tái)總覽圖。

 

圖2：器件庫性能參數(shù)表。

  2.精準(zhǔn)DRC實(shí)現(xiàn)

  基于南智光電提供的設(shè)計(jì)規(guī)則(Design Rules)，PIC Studio平臺(tái)實(shí)現(xiàn)：

  ●  FE/SE/ME層波導(dǎo)最小寬度(0.18μm)檢查

  ●  HTR層最小寬度(2.00μm)與間距檢查

  ●  M1層金屬導(dǎo)線寬度與間距規(guī)則檢查

  ●  PAD層開口及其與M1層關(guān)系檢查

  ●  DTR層最小寬度(100μm)規(guī)則檢查

  ●  所有層的角度規(guī)則(禁止<85°)檢查

  3.pVerify工具集成

  逍遙科技的PIC Studio平臺(tái)集成專業(yè)的pVerify工具，為南智光電的硅光設(shè)計(jì)提供全面的DRC檢查功能：

  ●  實(shí)時(shí)DRC檢查，在設(shè)計(jì)過程中提前發(fā)現(xiàn)問題

  ●  批量DRC驗(yàn)證，確保設(shè)計(jì)完全符合南智光電工藝要求

  ●  直觀的錯(cuò)誤報(bào)告與可視化界面，幫助設(shè)計(jì)師快速定位并解決問題

圖3:展示版圖經(jīng)由 pVerify 工具進(jìn)行工藝規(guī)則檢查后的結(jié)果，檢測出(a)波導(dǎo)寬度違規(guī)(b)銳角違規(guī)

硅光平臺(tái)MPW批次及時(shí)間表

  

  線上培訓(xùn)交流 

  培訓(xùn)內(nèi)容概覽

  南智光電硅光流片平臺(tái)最新工藝介紹（30分鐘）

  主講人：南智光電 溫文俊博士

  基于PIC Studio的PDK高效應(yīng)用實(shí)操講解（30分鐘）

  主講人：逍遙科技 韓雨輝

  技術(shù)交流與答疑（20分鐘）

  培訓(xùn)亮點(diǎn)

  展示商用軟件的設(shè)計(jì)優(yōu)勢

  完整PDK支持，解壓即用

  互動(dòng)有獎(jiǎng)

  本次培訓(xùn)旨在幫助用戶深入了解IOPTEE PDK的應(yīng)用，提高設(shè)計(jì)效率，歡迎廣大技術(shù)人員踴躍參與！

  主辦方：南智光電 逍遙科技

  2025年4月21日下午15：00-16：30

  活動(dòng)地點(diǎn)：線上會(huì)議

（掃碼立即預(yù)約報(bào)名，名額有限，先到先得）

  關(guān)于南智光電

  南智光電硅光子學(xué)平臺(tái)基于180 nm CMOS工藝線，提供MPW、Full Mask、EBL等多種流片方式，可實(shí)現(xiàn)無源器件、熱光調(diào)諧器件等各類硅光子器件的制作，應(yīng)用于數(shù)據(jù)通信、光計(jì)算、生物感測等領(lǐng)域。

  關(guān)于逍遙科技

  逍遙科技的自主研發(fā)PIC Studio平臺(tái)為光電子芯片設(shè)計(jì)提供設(shè)計(jì)、仿真到驗(yàn)證的全流程支持。