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報(bào)道稱ASML或向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版光刻機(jī)

摘要:ASML試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令,計(jì)劃面向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版深紫外光刻(DUV)光刻機(jī)。

 ICC訊  據(jù)報(bào)道,ASML試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令,計(jì)劃面向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版深紫外光刻(DUV)光刻機(jī)。

  該工具將符合最新的美國(guó)出口規(guī)定,可以在沒(méi)有許可證的情況下運(yùn)給中國(guó)客戶。這款設(shè)備將使中芯國(guó)際(SMIC)和華虹等公司能夠在28納米級(jí)及以上制程上制造芯片。

  該特別版光刻機(jī)是基于Twinscan NXT:1980Di改造,目前這是臺(tái)積電仍在投入生產(chǎn)的最低級(jí)別的型號(hào),該機(jī)器具備1.35數(shù)值孔徑光學(xué)系統(tǒng),分辨率小于38納米,理論上支持7納米級(jí)及更先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)。事實(shí)上,這臺(tái)光刻機(jī)最初于2016年發(fā)布,曾被臺(tái)積電用于開(kāi)發(fā)其7納米級(jí)工藝技術(shù)。

  報(bào)道稱,ASML可以對(duì)該設(shè)備進(jìn)行改造,提高其最低支持的分辨率,以防止中芯國(guó)際和其他中國(guó)芯片制造商制造低于28納米的工藝技術(shù)??紤]到中芯國(guó)際絕大部分收入來(lái)自28納米及以上的生產(chǎn)節(jié)點(diǎn),中國(guó)公司很可能仍然對(duì)采購(gòu)這類工具感興趣。

  根據(jù)最新的出口法規(guī),美國(guó)公司和個(gè)人必須獲取許可證才能出口能夠制造14納米/16納米及以下制程的非平面晶體管結(jié)構(gòu)的邏輯芯片、128層及以上的3D NAND以及半間距18納米以下的DRAM存儲(chǔ)芯片的工具和技術(shù)。對(duì)于從美國(guó)出口組件的非美國(guó)公司,同樣適用這些規(guī)定,ASML和Twinscan NXT:1980Di也受到限制。

  根據(jù)最新的荷蘭出口規(guī)定,ASML需要獲取出口許可證才能向中國(guó)公司銷售Twinscan NXT:2000i光刻機(jī)。ASML尚未正式推出Twinscan NXT的特別版本,但如果出口規(guī)定繼續(xù)限制向中國(guó)銷售先進(jìn)技術(shù),此舉似乎是可能的。

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