光刻機(jī)巨頭阿斯麥ASML將赴韓國(guó)建廠：預(yù)計(jì)2025年建成

  ICC訊  據(jù)韓國(guó)媒體 BusinessKorea 報(bào)導(dǎo)，韓國(guó)產(chǎn)業(yè)通商資源部于 5 月 13 日對(duì)外宣布，全球光刻機(jī)龍頭大廠阿斯麥(ASML)計(jì)劃在韓國(guó)建設(shè)光刻設(shè)備再制造工廠及培訓(xùn)中心，新廠預(yù)計(jì)在 2025 年建設(shè)完成。

  所謂再制造，指的是以舊的機(jī)器設(shè)備為毛坯，采用專門的工藝和技術(shù)，在原有制造的基礎(chǔ)上進(jìn)行一次新的制造，而且重新制造出來(lái)的產(chǎn)品無(wú)論是性能還是質(zhì)量都不亞于原先的新品。

  據(jù)媒體介紹，阿斯麥計(jì)劃未來(lái)四年將在韓國(guó)投資 2400 億韓元(約合 13.7 億人民幣)，于京畿道華城市打造一座 EUV(極端遠(yuǎn)紫外光源)光刻設(shè)備再制造廠以及一家培訓(xùn)中心，由京畿道政府對(duì)阿斯麥在當(dāng)?shù)氐氖跈?quán)、擴(kuò)張業(yè)務(wù)提供協(xié)助。其 EUV 光刻設(shè)備再制廠的主要用途就是為韓國(guó)當(dāng)?shù)剡\(yùn)行的 EUV 光刻機(jī)的維護(hù)和升級(jí)提供助力。

  據(jù)IT之家了解，此前韓國(guó)發(fā)布半導(dǎo)體強(qiáng)國(guó)建設(shè)戰(zhàn)略規(guī)劃，將半導(dǎo)體研發(fā)稅額抵扣率提升至 40～50%，并且還擬斥資約 4500 億美元建設(shè)全球最大的芯片制造基地，韓國(guó)想躋身芯片半導(dǎo)體大國(guó)行列的意圖不言而喻，此次阿斯麥赴韓國(guó)建廠，對(duì)加快韓國(guó)半導(dǎo)體建設(shè)將會(huì)有很大的助力。