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臺積電或公布2nm工藝細節(jié)：功耗降低30%

訊石光通訊網(wǎng)   發(fā)布時間:2022/8/31 17:29:57  編者:iccsz
摘要：在9月份量產(chǎn)3nm工藝之后，臺積電下一代的工藝也已經(jīng)在路上了，2nm工藝未來兩年中將接替3nm工藝。臺積電在6月份正式公布了2nm工藝，并透露了一些技術(shù)細節(jié)，相比3nm工藝，在相同功耗下，2nm速度快10~15%；相同速度下，功耗降低25~30%。

  ICC訊 在9月份量產(chǎn)3nm工藝之后，臺積電下一代的工藝也已經(jīng)在路上了，2nm工藝未來兩年中將接替3nm工藝。臺積電在6月份正式公布了2nm工藝，并透露了一些技術(shù)細節(jié)，相比3nm工藝，在相同功耗下，2nm速度快10~15%；相同速度下，功耗降低25~30%。

  不過在晶體管密度上，2nm工藝的提升就不那么讓人滿意了，相比3nm只提升了10%，遠低于以往至少70%的晶體管密度提升——按照摩爾定律來算，密度應(yīng)該提升100%才算新一代工藝。此外，臺積電2nm工藝的量產(chǎn)時間也要等到2025年下半年，這意味著終端產(chǎn)品出貨要等到2026年了，升級周期也要比當前的節(jié)點慢不少。

  2nm工藝到底為什么密度提升有限？又有哪些首發(fā)客戶？這些關(guān)鍵問題還要臺積電解答，正好8月30日該公司還有技術(shù)論壇會議召開，2nm工藝勢必會是明天的焦點，臺積電屆時應(yīng)該會公布更多的細節(jié)信息。

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關(guān)鍵字: 臺積電 2nm 工藝 功耗
文章標題:臺積電或公布2nm工藝細節(jié)：功耗降低30%
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