三星宣布成功完成8納米射頻解決方案開發(fā)

  ICC訊  三星官網(wǎng)今日發(fā)布消息稱，該公司已推出了基于8納米工藝的最新射頻技術(shù)。

  三星表示，這一先進(jìn)的工藝技術(shù)有望提供專門用于支持多通道和多天線芯片設(shè)計的5G通信“單芯片解決方案”。三星的8納米射頻平臺將把該公司在5G半導(dǎo)體市場的領(lǐng)導(dǎo)地位從Sub-6GHz頻段擴(kuò)展至毫米波應(yīng)用。

  三星的8納米射頻工藝技術(shù)是對目前已經(jīng)廣泛使用的包括28納米和14納米在內(nèi)的射頻相關(guān)解決方案的最新補充。自2017年以來，三星為高端智能手機出貨了超過5億顆移動終端射頻芯片。

  “通過卓越的創(chuàng)新和工藝制造，我們加強了我們的下一代無線通信產(chǎn)品?！?A href="http://m.3xchallenge.com/site/CN/Search.aspx?page=1&keywords=%e4%b8%89%e6%98%9f&column_id=ALL&station=%E5%85%A8%E9%83%A8" target="_blank">三星電子代工技術(shù)開發(fā)團(tuán)隊主管Hyung Jin Lee表示?！半S著5G毫米波的擴(kuò)展，對于那些在緊湊型移動終端上尋求實現(xiàn)更長電池壽命和出色信號質(zhì)量的客戶來說，三星8納米射頻將成為一個很好的解決方案?！?

  隨著向先進(jìn)節(jié)點的不斷擴(kuò)展，數(shù)字電路在性能、功耗和面積(PPA)方面得到了顯著改善，而模擬/射頻模塊由于退化寄生效應(yīng)(例如窄線寬引起的電阻增加)而沒有得到這種改善。因此，大多數(shù)通信芯片趨向于出現(xiàn)射頻特性退化，例如接收頻率放大性能劣化和功耗增加。

  為了克服模擬/射頻擴(kuò)展方面的挑戰(zhàn)，三星開發(fā)了一種獨特的8納米射頻專用架構(gòu)，名為RFextremeFET (RFeFET)，可以顯著改善射頻特性，同時降低功耗。與14納米射頻相比，三星的RFeFET補充了數(shù)字PPA擴(kuò)展，同時恢復(fù)了模擬/射頻擴(kuò)展，從而實現(xiàn)了高性能5G平臺。

  三星在新聞稿中寫道，三星的工藝優(yōu)化最大限度地提高了通道移動性，同時最大限度地減少了寄生效應(yīng)。由于RFeFET的性能大幅提升，射頻芯片的晶體管總數(shù)和模擬/射頻塊的面積可以實現(xiàn)減小。與14納米射頻相比，由于采用RFeFET架構(gòu)創(chuàng)新，三星的8納米射頻工藝技術(shù)將功率效率提高了35%，而射頻芯片面積減少了35%。