ICC訊 10月12日,中國一站式IP和定制芯片領(lǐng)軍企業(yè)芯動科技,宣布公司已完成全球首個基于中芯國際FinFET N+1先進(jìn)工藝的芯片流片和測試,所有IP全自主國產(chǎn),功能一次測試通過!
芯動科技有限公司成立于2006年,是一家高端混合電路芯片設(shè)計公司,擁有自主全系列高帶寬高性能計算IP技術(shù),曾多次在芯片先進(jìn)工藝上填補(bǔ)國內(nèi)空白。
2020年,芯動科技推出中國標(biāo)準(zhǔn)的INNOLINK Chiplet高性能計算平臺(CPU/GPU/NPU),在各FinFET先進(jìn)工藝上定制多款芯片,全部一次成功上量。
在中芯國際N+1工藝尚待成熟的情況下,芯動科技的技術(shù)團(tuán)隊投入數(shù)千萬元進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計,基于中芯國際N+1制程的首款芯片經(jīng)過持續(xù)數(shù)月、連續(xù)多輪的測試迭代,成功助力中芯國際突破N+1工藝良率瓶頸,向著實現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)邁出了堅實一步。
中芯國際是國內(nèi)規(guī)模最大、也是技術(shù)最先進(jìn)的集成電路芯片制造企業(yè),而N+1工藝是中芯國際在第一代先進(jìn)工藝14nm量產(chǎn)之后的第二代先進(jìn)工藝的代號。
此前,中芯國際聯(lián)席CEO梁孟松博士曾介紹,與現(xiàn)有的14nm工藝相比,N+1工藝的性能提升20%,功耗降低57%,邏輯面積縮小63%,SoC面積減少55%。從邏輯面積縮小的數(shù)據(jù)來看,該工藝已與臺積電7nm相近。
梁孟松博士表示,N+1代工藝在功耗及穩(wěn)定性上跟7nm工藝非常相似,但性能要低一些(業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)是提升35%),所以中芯國際的N+1工藝主要面向低功耗應(yīng)用的。中芯國際后續(xù)將推出的N+2在功耗上與N+1表現(xiàn)差不多,但主要面向高性能,同時成本也會有所增加。
在此前公布的2020年上半年財報當(dāng)中,中芯國際曾表示,第二代先進(jìn)工藝(N+1)進(jìn)展順利,已進(jìn)入客戶產(chǎn)品驗證階段。9月下旬,中芯國際再度對外回應(yīng)稱,第二代FinFET N+1工藝已經(jīng)進(jìn)入客戶導(dǎo)入階段,有望于2020年底小批量試產(chǎn)。
結(jié)合相關(guān)報道,芯動科技是中芯國際N+1工藝的首批客戶,并有望年底試產(chǎn)。
截至10月12日收盤,中芯國際漲11.47%,現(xiàn)報20.60港元,最新市值1186.51億港元。
本文轉(zhuǎn)載自:中國半導(dǎo)體論壇